1. Picosun focuses exclusively on ALD [Atomic Layer Deposition] and ALD is key to advanced thin films.'

Picosun wird sich ausschließlich auf das ALD-Verfahren [Atomlagenabscheidung] konzentrieren und ALD ist der Dreh- und Angelpunkt bei der Entwicklung hochwertiger Dünnschichten."

2. The invention particularly relates to the use of a 30 to 90 % by weight solution of one or more hafnium alkoxides for producing hafnium oxide layers and hafnium oxynitride layers for CVD or ALD processes.

Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere die Verwendung einer 30 bis 90 Gew.-%igen Lösung eines oder mehrerer Hafniumalkoxide zur Erzeugung von Hafniumoxid- und Hafniumoxynitridschichten für CVD- oder ALD-Verfahren.